ITO

也就是氧化铟锡，是应用比较早的隔热材料，也是半导体材料，最多的应用是作为透明导电膜材料。但氧化铟的价格高昂限制了作为隔热材料的材料的普及。ITO对IR的阻隔区域在 780nm-1600nm之间。且1400nm左右对IR的阻隔比950nm左右的阻隔要好得多。波长在380nm-780nm的可见光区域透光率好。

ATO

也就是氧化锡锑，价格与氧化铟相比有相当大的优势，对IR的阻隔区域在 780nm-1300nm之间，在1100nm附近对IR的阻隔率最好。

GTO

也就是氧化钨参杂一些其他金属成份的纳米粉体，一次粒径在40nm以下。对IR的阻隔区域因每家参杂的不同阻隔波段有很大差异。且成本相对较低。目前应用较多。

相变

材料

也就是二氧化钒，是一种具有相变性质的金属氧化物，二氧化钒在低于68度时为单斜晶，呈半导体特性，即对红外线有较高的透过率;在高于68度时，变为正方晶，呈金属特性，对红外线变为高反射。是生产智能调光膜的主要材料。其相变温度为68℃，相变温度可通过参杂钨元素的量或改变结构调控。目前相变温度可以控制在35℃左右。如能控制在28℃以下，这款产品会真正迎来春天。

1. 

磁控溅射法

将金属氧化物如氧化铟，氮化钛、氧化钛做成靶材，采用磁控溅射的方式沉积的薄膜表面，然后复合成陶瓷隔热膜。如伊士曼旗下的琥珀光学太阳膜就是这种工艺。这种生产方法膜清晰度高，产品稳定、隔热效果好，但设备投入大，生产效率低。成本相对也高。且不是任何隔热用金属氧化物都适用制作溅射靶材。

2. 

纳米粉体分散涂布光固法

将金属氧化物制作成纳米微粒，制成分散液后混合到光固化耐磨树脂中。一般分散后二次粒径要控制在50nm以内。不然薄膜雾度会高，清晰度下降。然后涂布到薄膜表面，制成纳米隔热膜。这种工艺生产相对简单，隔热膜可以省去一道复合工艺，但问题是，光固涂层相对较薄，一般为2-5um,3um为最佳，而生产高隔热产品，纳米材料的净厚就超过2um。与光固化树脂的比例达到1：1，涂层厚度最少也要5um。这样很容易造成光固不良、表层抗磨层脱落、抗磨层不达标等相关问题。早期的日本产隔热膜多为此种工艺。3M的晶锐70在早期也有使用这种工艺，后来发生过一些问题，如用酒精擦拭的时候，会擦掉固化层。后来3M就改进了工艺不采用这种方法了。

3. 

纳米粉体分散涂布复合法

将金属氧化物制作成纳米微粒，制成分散液混合到复合胶水中。一般分散后二次粒径要控制在50nm以内。然后涂布到薄膜表面，再复合一层薄膜，这样纳米隔热层就复合在两层薄膜中间，然后在复合好的薄膜上一面涂上安装胶后再复合一层离型膜，再在另一面做上光固化涂层，就生成纳米膜成品。这种工艺最早为韩国工厂使用。目前国内生产纳米隔热膜大部分使用此种工艺。此种工艺也是相对成熟的工艺。关键是纳米粒径大小与分散液分散程度，分散液与胶水的匹配度、与胶水混合的均匀度。如二次粒径过大，膜就会发雾。

此工艺最大的问题是：正常的复合胶厚度为5-6um，而纳米材料的净厚就超过2-3um，这样将纳米材料与胶水的比例达到了1：1，这样胶水中有大量的纳米颗粒填充。复合胶水的性能会大幅下降。比如夹层易剥离、夹层起泡的现象时有发生。也有工厂为了规避这些现象，提高胶水添加比例。将复合胶层做到10um 左右。这样胶水的强度有了保障，但胶层过厚后，由于纳米材料的吸热特性。膜面温度比较高，太厚的胶水又易产生形变。日本产的太阳膜，因日本人更注意安全性，胶层一般都比较厚。所以日系太阳膜几年后胶水变形的几率非常高。典型的就是3M的晶锐70.也是日本生产的。经常在太阳下暴晒的，3年后就会有明显变形。这样就会影响驾驶安全，尤其是前档膜。

4.

 纳米熔粒拉伸成膜法

将具有金属氧化物制成的无机纳米粉体制备成分散性好的纳米色浆;将分散性好的纳米色浆与有机塑料母粒在260300℃温度下熔融分散;将混溶的复合体系经过双螺杆搅拌，混合均匀后，挤出、切粒得到塑料粒子，成为三层共挤薄膜的中间芯层原料;采用双向拉伸三层共挤设备将基膜芯层聚酯原料、基膜上表层聚酯原料和基膜下表层聚酯原料在模头汇合复合后共挤成型，经过急冷辊冷却后，再经预热，拉伸倍数设定为2～5，纵向拉伸;再经预热，拉伸倍数设定为2.5～5.5倍，横向拉伸;而后经过冷却、静电消除、收卷和分切，得到的纳米聚酯薄膜，也称为原色隔热基膜。原色隔热基膜再经涂布安装胶后烘干复合离型膜后再涂UV光固抗划涂层，得到原色纳米膜成品。此工艺最大的难度是纳米色浆与有机塑料母粒熔融分散阶段。

对配方的组配，熔融分散工艺要求相当高。此种工艺目前已有量产膜上市的也只有三菱树脂，纳琳科等两三家。至于后期会有什么样的问题会出现，必经国内上市时间尚短，目前还在观望中。此种工艺一旦成熟，最大的优势可以大规模量产。让下游涂布工厂缩减生产工艺流程。一旦量产可以大幅降低生产成本。但缺点也是只适宜规模化，一开机最少也要10多万米的出货量。不适宜小批量、个性化订单。且涂布工厂工艺简单，生产门槛降低。一旦规模化生产，很容易造成同质化价格竞争。最后变成厂家没利润的烂大街的产品。

5. 

纳米微附涂层法

纳米微附涂层是威仕结合上述几种工艺的优缺点，经过多年实验而开发的一种新的纳米膜生产工艺。产品工艺最接近磁控溅射陶瓷膜工艺。但不需投入磁控溅射如此高昂的设备。生产成本大幅降低。甚至低于纳米粉体分散涂布复合法。解决了涂布复合法的胶水性性下降问题。也不会有光固法表层抗划伤层涂层不牢问题。也解决了纳米熔粒拉伸成膜法的不能小批量生产的问题。但纳米微附涂层技术虽已研发出来，但目前还没能形成量产。因为需要新型的设备来达成。

目产国内外所有窗膜涂布设备都达不到生产要求。因为这种工艺需要一种多涂层的连续涂布工艺。所以威仕在开发了全球仅有的一台5涂头窗膜生产设备。这条产线可以一次性涂布5种涂层。纳米微附窗膜可以做到一次成型，生产效率比传统窗膜产线提高3倍。单线年产能可以突破1200万平方米。新产线会在2018正试投产纳米微附隔热膜。

纳米微附涂层的工艺是将纳米隔热层及纳米无机颜料层与胶水、抗划伤涂层进行分离，单做了两个涂层。工艺是先在高清PET基膜上涂一层增强附着力层、烘干后再涂一层无机颜色层(此层也可以不要)，烘干后再涂纳米隔热层，烘干后再涂保护隔离层，烘干后再涂按装胶层，烘干后与离型复合后在再在背面涂光固化抗划层，得纳米微附隔热膜成品。此工艺只有一次安装胶涂层，没有复合胶，减少了胶纹的产生;此工艺纳米材料与胶水及抗划涂层完全分离，不会对胶水性能产生影响;此工艺因没有复合层，只有一层主体基膜，窗膜的收缩性更均匀。方便施工。因2层膜复合后收缩性会下将20%以上。

此工艺由于纳米隔热材料高度聚集，类似磁控溅射工艺。同样隔热性能下，纳米材料用量可以减少3分之一，比复合法清晰度更高。且缩减了纳米材料的成本。且所有涂层可以连线生产，大大提高了生产效率。对比纳米熔粒拉伸成膜法，因是涂布工艺，可适用小批量生产。方便个性化定制。